2024年3月12日 · 静电吸盘--又称静电卡盘，是半导体工艺中的硅片夹持工具，被广泛用于PVD、CVD、ETCH等制程部门。在一些制程的process过程中需要固定wafer，并且维持wafer 背面压力的恒定。

一.常见 静电吸盘 的构造和原理： 1。种类：基本分为两类。即库仑类和迥斯热背（JR或Johnsen-Rahbek）类。 两类吸盘都靠静电荷的同性相吸来固定硅片；吸盘与晶片接触的表面有一层电介质。

2022年9月16日 · 静电卡盘，简称ESC，E-chuck（Electrostatic Chuck），在半导体设备中价值比较高的部件之一，以刻蚀设备为例，在晶圆加工过程中主要起到为晶圆背面提供支撑，以静电吸附的方式保证其固定，为晶圆提供动态恒定的温度。

静电卡盘（Electrostatic Chuck，简称E-Chuck），其原理是利用静电吸附原理将待加工晶圆吸附在其表面，使晶圆保持较好的平坦度，可以抑制晶圆在工艺 ...

静电卡盘又称为静电吸盘（esc），在半导体设备中价值比较高的部件之一，是一种 半导体工艺 中的硅片夹持工具，利用 静电吸附 原理来固定硅片。 静电卡盘结构示意图 . 目前，静电吸盘广泛应用于 集成电路制造工艺 中，特别是刻蚀、pvd、cvd等核心工艺中。

静电卡盘所使用的静电吸附技术是一种替代传统机械夹持、真空吸附方式的优势技术，在半导体、面板显示、光学等领域中有着广泛应用。

通过总结，静电吸盘的实现可以分为以下三个设计。 设计1：静电吸盘的结构. 常规晶圆静电卡盘的实物图可以如图1左所示，区别在于静电吸盘表面的绝缘层材料不同，深色为氮化铝，白色为氧化铝，静电吸盘的结构可以参考图1右，分为以下部分：

2022年7月2日 · 静电卡盘，也称静电吸盘，现在已经广泛应用在等离子和真空环境下的半导体工艺过程中，比如刻蚀、化学气相沉淀、离子植入等。这种技术优势在于它对良率的提升、没有圆片边缘排除效应、圆片夹持均匀度好、可控温度等等。

2022年6月29日 · 静电卡盘，也称静电吸盘，现在已经广泛应用在等离子和真空环境下的半导体工艺过程中，比如刻蚀、化学气相沉淀、离子植入等。 这种技术优势在于它对良率的提升、没有圆片边缘排除效应、圆片夹持均匀度好、可控温度等等。

2023年10月30日 · 静电卡盘（e-chuck）是一种适用于真空及等离子体工况环境的超洁净晶圆片承载体，它利用静电吸附原理进行超薄晶圆片的平整均匀夹持，是pvd、etch、离子注入等高端装备的核心部件。